paradigmE型硅以paradigmE产品架构为基础，融入增强性功能，方便客户在多晶硅应用中进行化学试验。最新硅蚀刻系统巩固了Mattson创建的新蚀刻标准，能满足客户在前沿技术节点上对设备制造过程中苛刻的工艺要求。它采用了Mattson专有的法拉第屏蔽设计，以改善蚀刻过程控制，提高平均清洗间隔时间（MTBC），比其他同类系统高出3倍，可实现真正意义上的离子密度及离子能量的独立控制，并通过改进分布控制，最小化溅射，从而有效减少维护成本。
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